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日本半导体光刻设备制造商 Gigaphoton 推出 hTGM 新型氖气回收系统,号称回收率达 50%
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<p data-vmark="9199">IT之家 10 月 6 日消息,据科技媒体 Tom's Hardware 今天报道,日本半导体光刻设备制造商 Gigaphoton 现已推出新型氖气回收系统 hTGM,用于氟化氩(ArF)准分子激光器。</p><p style="text-align: center;" data-vmark="f108"><img…
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