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日本半导体光刻设备制造商 Gigaphoton 推出 hTGM 新型氖气回收系统，号称回收率达 50%

来源: IT之家 · 发布于 2026年10月6日 14:18

<p data-vmark="9199">IT之家 10 月 6 日消息，据科技媒体 Tom's Hardware 今天报道，日本半导体光刻设备制造商 Gigaphoton 现已推出新型氖气回收系统 hTGM，用于氟化氩（ArF）准分子激光器。</p><p style="text-align: center;" data-vmark="f108"><img…

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