تقنية

ASML & 蔡司：未来 Hyper NA EUV 光刻机主要挑战为更低的可用景深

المصدر: IT之家 · نُشر في 09‏/10‏/2026، 2:29 ص

<p data-vmark="81e1">IT之家 10 月 9 日消息，ASML（阿斯麦）与其光学系统合作伙伴 ZEISS（蔡司）在一份 10 月 1 日发布的文章中表示，数值孔径≥0.75 的 <strong>Hyper NA EUV 光刻机有望支持 5nm“半间距”的光学分辨率</strong>，并在 10 年左右面世。</p><p data-vmark="7736"…

نحن موقع تجميع أخبار: نعرض العنوان ومقتطفاً قصيراً مع رابط للمصدر الأصلي، ولا ننشر النص الكامل.

• #strong
• #hyper
• #vmark
• #asml
• #data
• #euv