科技

ASML & 蔡司：未来 Hyper NA EUV 光刻机主要挑战为更低的可用景深

来源: IT之家 · 发布于 2026年10月9日 02:29

<p data-vmark="81e1">IT之家 10 月 9 日消息，ASML（阿斯麦）与其光学系统合作伙伴 ZEISS（蔡司）在一份 10 月 1 日发布的文章中表示，数值孔径≥0.75 的 <strong>Hyper NA EUV 光刻机有望支持 5nm“半间距”的光学分辨率</strong>，并在 10 年左右面世。</p><p data-vmark="7736"…

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