علوم
Plasma treatment helps reveal how molecular coatings dope silicon
المصدر: Phys.org · نُشر في
Controlling dopant concentration near the silicon surface is increasingly important for ultrashallow junctions and nanoscale devices. Mixed monolayer doping (MMLD) offers a surface-chemistry-based…
اقرأ الخبر من المصدر ↗نحن موقع تجميع أخبار: نعرض العنوان ومقتطفاً قصيراً مع رابط للمصدر الأصلي، ولا ننشر النص الكامل.
- #silicon
- #surface
- #concentration
- #increasingly
- #ultrashallow
- #controlling
أخبار ذات صلة
- How Bolsonaro's statements destroyed the rainforest
Phys.org · 29/09/2026، 12:20 ص
- When microbial DNA is scarce, new profiling method helps separate genuine signals from contamination
Phys.org · 29/09/2026، 12:00 ص
- Dopamine-based nanotubes combine heat, electrical stimulation and antioxidant release for first time
Phys.org · 28/09/2026، 11:40 م
- Party leaders widening Washington's political chasm
Phys.org · 28/09/2026، 11:40 م
- Two-color glowing molecule could make wind tunnel tests more accurate
Phys.org · 28/09/2026، 11:20 م